[发明专利]一种电耦合化学气相沉积法制备碳化硅涂层的装置和方法

摘要

本发明公开了一种电耦合化学气相沉积法制备碳化硅涂层的装置和方法，属于碳化硅涂层技术领域。本发明装置包括带有水冷壁的炉体、石墨电极工装、气源系统、真空泵和尾气处理系统；所述石墨电极工装用于固定和通电加热待沉积样品，通过气源系统向炉体内通入气源物质，炉体的顶部依次连接真空泵和尾气处理系统。采用电耦合化学气相沉积法制备以C/C复合材料或石墨为基体的SiC涂层，首先对炉体进行通电加热，同时水冷壁对炉体进行冷却，使基体内外形成所需的温度梯度，然后向炉体内通入气源气体进行沉积；沉积温度为900～1400℃，反应时间为3～10小时。本发明能够实现大尺寸、低成本、短周期、高效率SiC涂层的制备。

主权项

1.一种电耦合化学气相沉积法制备碳化硅涂层的装置，其特征在于：该装置包括带有水冷壁的炉体、石墨电极工装、气源系统、真空泵和尾气处理系统；其中：所述石墨电极工装设于炉体内部，用于固定和通电加热待沉积样品，所述炉体的底部设有进气管，该进气管连接所述气源系统，所述气源系统用于向炉体内输送沉积用气源气体；所述炉体的顶部通过管道连接真空泵，真空泵连接尾气处理系统。