[发明专利]一种复合结构的GaN/CdZnTe薄膜紫外光探测器的制备方法有效
申请号: | 201710318230.6 | 申请日: | 2017-05-08 |
公开(公告)号: | CN107170853B | 公开(公告)日: | 2019-02-22 |
发明(设计)人: | 沈悦;张宗坤;徐宇豪;沈意斌;黄健;顾峰;王林军 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | H01L31/109 | 分类号: | H01L31/109;H01L31/0336;H01L31/18;H01L21/02 |
代理公司: | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人: | 陆聪明 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种复合结构的GaN/CdZnTe薄膜紫外光探测器的制备方法,其步骤为:(1)将商用CdZnTe多晶体研磨成粉末作为升华源;(2)镀有氮化镓(GaN)的单晶硅片作为衬底,再用氮气吹干,放入近空间升华反应室内;(3)将升华室内气压抽至5pa以下;开卤素灯将升华源和衬底加热到600℃、550℃;生长20min,冷却至室温,取出,即得到GaN/CdZnTe薄膜;(4)用蒸镀法向上述GaN/CdZnTe薄膜表面蒸镀金属电极,再将金属电极放在N2氛围下退火,使GaN/CdZnTe与金属电极之间形成更好的欧姆接触,即制得复合结构的GaN/CdZnTe薄膜紫外光探测器。该方法使用的GaN衬底可以保证复合结构的GaN/CdZnTe薄膜紫外光探测器在高温、强辐射环境下的使用,对紫外光也具有有良好的稳定性和光响应特性。 | ||
搜索关键词: | 一种 复合 结构 gan cdznte 薄膜 紫外光 探测器 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种复合结构的GaN/CdZnTe薄膜紫外光探测器的制备方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:(1) CdZnTe多晶升华源的准备:将CdZnTe多晶体研磨成粉末作为升华源;(2) 衬底预处理:采用镀有GaN的单晶硅片作为衬底,将衬底分别用丙酮、酒精、去离子水分别清洗15分钟,洗去衬底表面的杂质和有机物,再用氮气吹干后放入近空间升华反应室内;(3) CdZnTe薄膜的生长过程:开机械泵抽真空,将近空间升华反应室内气压抽至5pa以下;开卤素灯将升华源和衬底分别加热到600℃、550℃;生长20min后,关闭卤素灯,待样品冷却至室温后,关闭机械泵,取出样品,即得到GaN/CdZnTe薄膜;(4) GaN/CdZnTe薄膜紫外光探测器制作:采用蒸镀法向上述GaN/CdZnTe薄膜表面蒸镀厚为100nm的金电极,然后将金电极放在N2气体氛围下于450℃退火30min ,使GaN/CdZnTe薄膜与金电极之间形成更好的欧姆接触,最后制得薄膜复合结构的GaN/CdZnTe薄膜紫外光探测器。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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