[发明专利]一种复合结构的GaN/CdZnTe薄膜紫外光探测器的制备方法有效

专利信息
申请号: 201710318230.6 申请日: 2017-05-08
公开(公告)号: CN107170853B 公开(公告)日: 2019-02-22
发明(设计)人: 沈悦;张宗坤;徐宇豪;沈意斌;黄健;顾峰;王林军 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: H01L31/109 分类号: H01L31/109;H01L31/0336;H01L31/18;H01L21/02
代理公司: 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人: 陆聪明
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 复合 结构 gan cdznte 薄膜 紫外光 探测器 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种复合结构的GaN/CdZnTe薄膜紫外光探测器的制备方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:

(1) CdZnTe多晶升华源的准备:将CdZnTe多晶体研磨成粉末作为升华源;

(2) 衬底预处理:采用镀有GaN的单晶硅片作为衬底,将衬底分别用丙酮、酒精、去离子水分别清洗15分钟,洗去衬底表面的杂质和有机物,再用氮气吹干后放入近空间升华反应室内;

(3) CdZnTe薄膜的生长过程:开机械泵抽真空,将近空间升华反应室内气压抽至5pa以下;开卤素灯将升华源和衬底分别加热到600℃、550℃;生长20min后,关闭卤素灯,待样品冷却至室温后,关闭机械泵,取出样品,即得到GaN/CdZnTe薄膜;

(4) GaN/CdZnTe薄膜紫外光探测器制作:采用蒸镀法向上述GaN/CdZnTe薄膜表面蒸镀厚为100nm的金电极,然后将金电极放在N2气体氛围下于450℃退火30min ,使GaN/CdZnTe薄膜与金电极之间形成更好的欧姆接触,最后制得薄膜复合结构的GaN/CdZnTe薄膜紫外光探测器。

2.根据权利要求1 所述的一种复合结构的GaN/CdZnTe薄膜紫外光探测器的制备方法,其特征在于,上述步骤(1)中所述的CdZnTe多晶体为峨眉半导体材料厂生产的商用CdZnTe多晶体基片。

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