[发明专利]一种光电混频HEMT及其控制方法有效
申请号: | 201710304823.7 | 申请日: | 2017-05-03 |
公开(公告)号: | CN107195711B | 公开(公告)日: | 2019-01-29 |
发明(设计)人: | 杨春;贾少鹏;宋振杰 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/113;H01L31/18 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 娄嘉宁 |
地址: | 210009 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种光电混频HEMT,包括最下层的衬底,衬底上生长缓冲层,缓冲层上生长量子阱有源层;其中所述量子阱有源层从上到下依次包括:第一势垒层、第一隔离层、第一沟道层、光吸收层、第二沟道层、第二隔离层、第二势垒层;在所述量子阱有源层的外表面设置源极、漏极和栅极,栅极位于源极和漏极的中间,源极和漏极为欧姆接触。本发明有效缩短了空穴的运动距离,并且消除了光生电子‑空穴之间的库伦吸引的影响,同时也消除了空穴迁移率低的缺陷,从而可以大大提升光电混频HEMT的频率特性。 | ||
搜索关键词: | 一种 光电 混频 hemt 及其 控制 方法 | ||
【主权项】:
1.一种光电混频HEMT,其特征在于:包括最下层的衬底(1),衬底上生长缓冲层(2),缓冲层上生长量子阱有源层;其中所述量子阱有源层从上到下依次包括:第一势垒层(8)、第一隔离层(7)、第一沟道层(6)、光吸收层(12)、第二沟道层(5)、第二隔离层(4)、第二势垒层(3);所述第二沟道层(5)的禁带宽度均大于第一沟道层(6)和光吸收层(12)的禁带宽度;在所述量子阱有源层的外表面设置源极(10)、漏极(11)和栅极(9),栅极(9)位于源极(10)和漏极(11)的中间,源极(10)和漏极(11)为欧姆接触;第一势垒层(8)和第二势垒层(3)为δ掺杂型;第一沟道层(6)为和第二沟道层(5)均为耗尽型或均为增强型。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的