[发明专利]一种光电混频HEMT及其控制方法有效

专利信息
申请号: 201710304823.7 申请日: 2017-05-03
公开(公告)号: CN107195711B 公开(公告)日: 2019-01-29
发明(设计)人: 杨春;贾少鹏;宋振杰 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/113;H01L31/18
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 娄嘉宁
地址: 210009 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种光电混频HEMT,包括最下层的衬底,衬底上生长缓冲层,缓冲层上生长量子阱有源层;其中所述量子阱有源层从上到下依次包括:第一势垒层、第一隔离层、第一沟道层、光吸收层、第二沟道层、第二隔离层、第二势垒层;在所述量子阱有源层的外表面设置源极、漏极和栅极,栅极位于源极和漏极的中间,源极和漏极为欧姆接触。本发明有效缩短了空穴的运动距离,并且消除了光生电子‑空穴之间的库伦吸引的影响,同时也消除了空穴迁移率低的缺陷,从而可以大大提升光电混频HEMT的频率特性。
搜索关键词: 一种 光电 混频 hemt 及其 控制 方法
【主权项】:
1.一种光电混频HEMT,其特征在于:包括最下层的衬底(1),衬底上生长缓冲层(2),缓冲层上生长量子阱有源层;其中所述量子阱有源层从上到下依次包括:第一势垒层(8)、第一隔离层(7)、第一沟道层(6)、光吸收层(12)、第二沟道层(5)、第二隔离层(4)、第二势垒层(3);所述第二沟道层(5)的禁带宽度均大于第一沟道层(6)和光吸收层(12)的禁带宽度;在所述量子阱有源层的外表面设置源极(10)、漏极(11)和栅极(9),栅极(9)位于源极(10)和漏极(11)的中间,源极(10)和漏极(11)为欧姆接触;第一势垒层(8)和第二势垒层(3)为δ掺杂型;第一沟道层(6)为和第二沟道层(5)均为耗尽型或均为增强型。
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