[发明专利]一种正四角形图形化衬底在审
| 申请号： | 201710295712.4 | 申请日： | 2017-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN107123715A | 公开（公告）日： | 2017-09-01 |
| 发明（设计）人： | 梁宗文;王肖磊;孙智江 | 申请（专利权）人： | 海迪科（南通）光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/20 | 分类号： | H01L33/20;H01L33/22 |
| 代理公司： | 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙)11316 | 代理人： | 滑春生 |
| 地址： | 226500 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种正四角形图形化衬底，包括一衬底，所述衬底表面有周期化凸起或凹陷图形，所述凸起或凹陷图形的底边为正四角形且呈紧致排列，即每个排列正四角形任一边的垂直平分线通过该正四角形与相应的相邻正四角形的中心，且相邻正四角形之间具有间隙，排列正四角形的任一边与相邻正四角形对应的边关于该间隙轴对称。本发明的优点在于本发明正四角形图形化衬底，其中，周期化凸起或凹陷四角图形的任一边与相邻四角图形对应的边轴对称，在保持占空比不变并且紧致排列的情况下，具有更大的图形间隙，拓宽了外延的工艺窗口，提高了产品的良率和可靠性；进而能够有效降低在其上生长的外延薄膜位错密度以及提高芯片的光提取效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 角形 图形 衬底 | ||
【主权项】：
一种正四角形图形化衬底，其特征在于：包括一衬底，所述衬底表面有周期化凸起或凹陷图形，所述凸起或凹陷图形的底边为正四角形且呈紧致排列，即每个排列正四角形任一边的垂直平分线通过该正四角形与相应的相邻正四角形的中心，且相邻正四角形之间具有间隙，排列正四角形的任一边与相邻正四角形对应的边关于该间隙轴对称。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于海迪科（南通）光电科技有限公司，未经海迪科（南通）光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710295712.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种稀铋半导体量子阱
- 下一篇：电子装置
