[发明专利]适用于多样品同步实验的光辅助电化学刻蚀装置有效
| 申请号： | 201710267275.5 | 申请日： | 2017-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN107245755B | 公开（公告）日： | 2019-05-21 |
| 发明（设计）人： | 赵志刚;黄罗程;雷耀虎;郭金川;李冀;许桂雯;黄建衡 | 申请（专利权）人： | 深圳技术大学 |
| 主分类号： | C25F3/12 | 分类号： | C25F3/12;C25F7/00 |
| 代理公司： | 深圳市瑞方达知识产权事务所(普通合伙) 44314 | 代理人： | 张秋红;王少虹 |
| 地址： | 518000 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种适用于多样品同步实验的光辅助电化学刻蚀装置，包括反应机构、光照机构、冷却循环机构、电极机构；冷却循环机构包括用于盛装冷却液的冷却液循环桶、在冷却液循环桶中设置多个各自独立设置的反应机构；反应机构包括盛装有反应液的反应桶，反应桶下方设有硅片固定机构，所述硅片固定机构将硅片各自独立可拆卸密封固定在反应桶底部，光照机构设置在硅片固定机构下方并对应每个反应桶底部的硅片；电极机构包括作为阳极的冷却液、设置在反应桶中的阴极。本发明提供一种适用于多样品同步实验、保证刻蚀条件一致，并方便对比试验、并且节省成本的适用于多样品同步实验的光辅助电化学刻蚀装置。 | ||
| 搜索关键词： | 适用于 多样 同步 实验 辅助 电化学 刻蚀 装置 | ||
【主权项】：
1.一种适用于多样品同步实验的光辅助电化学刻蚀装置，包括用于刻蚀反应的反应机构、提供刻蚀光照的光照机构、用于保持刻蚀正常温度的冷却循环机构、用于刻蚀硅片的电极机构；其特征在于，所述冷却循环机构包括用于盛装冷却液的冷却液循环桶、在冷却液循环桶中设置多个各自独立设置的反应机构；所述反应机构包括盛装有反应液的反应桶，反应桶下方设有硅片固定机构，所述硅片固定机构将硅片各自独立可拆卸密封固定在每个反应桶底部，所述光照机构设置在硅片固定机构下方并对应每个反应桶底部的硅片；所述电极机构包括作为阳极的冷却液、设置在反应桶中的阴极；所述光照机构包括密封固定在冷却液循环桶中并对应每个反应桶的通光管，所述通光管的顶部与底部分别对应硅片和光源，光源通过通光管照射硅片背面。
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- 2012-07-12 - 2013-01-09 - C25F3/12
- 本实用新型涉及多晶硅太阳能电池绒面的制备机构，包括激光器、电解机构和工作台，其特征在于，所述电解机构主要由电解槽底座、电解槽盖板、阴极、阳极、阴极接座、阳极接座、工件安装夹具和密封圈组成，电解槽底座连接在工作台上；电解槽盖板封盖电解槽底座的上端开口，阴极接座和阳极接座分别固定在电解槽盖板上，阴极、阳极分别与阴极接座、阳极接座连接；用于连接工件上下端的工件安装夹具和密封圈分别连接在电解槽盖板内侧和对应位置的电解槽底座上，所述激光器置于电解槽底座外侧。有益效果为：其产品具有高重复性、良好高宽比性能，可获优于纯化学腐蚀制备绒面的减反射效果，对提高光电转换效率有重要作用。
- 利用微电极来蚀刻导电金属氧化物层的方法-201180016333.8
- 罗曼·梅特依;费代里科·格里索托 - 法国原子能及替代能源委员会
- 2011-03-25 - 2012-12-19 - C25F3/12
- 本发明涉及用于蚀刻沉积在基片上的导电金属氧化物层的所选区域的方法，该方法包括在极化微电极和电化学溶液的存在下电化学地去除所述区域。本发明还涉及通过所述方法获得的蚀刻层。
- 利用电化学技术实现氧化铟锡表面快速腐蚀和图案化的方法-201210204173.6
- 韩晓军;毕洪梅;王磊;刘丹青 - 哈尔滨工业大学
- 2012-06-20 - 2012-09-26 - C25F3/12
- 利用电化学技术实现氧化铟锡表面快速腐蚀和图案化的方法，属于电化学领域和微纳米技术领域。针对现有腐蚀ITO方法存在的问题，本发明利用电化学技术实现氧化铟锡表面快速腐蚀和图案化的方法如下：1）ITO表面清洗；2）通过塑封机将所用光刻胶在ITO基底上压成保护膜，直接放置所用图案的掩膜，经过紫外曝光显影，定型洗涤后形成所需图案；3）利用电化学技术，以稀盐酸为腐蚀液，采用循环伏安法或计时电流法对ITO表面进行光刻胶外裸露ITO部分的腐蚀；4）经电化学腐蚀后的ITO玻璃片经碱溶液洗涤，除去保护的光刻胶膜，N2吹干，得到图案化的ITO表面。本发明具有操作简单、快速、腐蚀效果好、边界清晰、成本低等优点。
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