[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法有效

专利信息
申请号: 201710200801.6 申请日: 2017-03-30
公开(公告)号: CN107275257B 公开(公告)日: 2020-08-14
发明(设计)人: 小林信雄;古川长树;山崎克弘;齐藤裕树 申请(专利权)人: 芝浦机械电子株式会社
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 徐殿军
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供能够准确地掌握积存处理液的罐内的所希望的液量的基板处理装置以及基板处理方法。实施方式的基板处理装置具备:罐(31),积存处理液;液面配管(33),与罐(31)连接,以供在罐(31)中存积的处理液流入,并形成为从罐(31)流入的处理液的液面M1根据罐31内的处理液的增减而移动;液面传感器(35),检测液面配管(33)内的液面M1;供气配管(34),用于向液面配管(33)内的液面M1之上的配管空间供给气体;以及控制部(50),与气体被供气配管(34)向配管空间供给而液面配管(33)内的液面M1移动相应,基于液面传感器(35)的检测结果判断液面传感器(35)有无误检测。
搜索关键词: 处理 装置 以及 方法
【主权项】:
一种基板处理装置,其特征在于,具备:罐,存积用于处理基板的处理液;液面配管,与所述罐连接以供存积在所述罐中的处理液流入,并形成为从所述罐流入的处理液的液面根据所述罐内的处理液的增减而移动;液面传感器,检测所述液面配管内的所述液面;供气配管,用于向所述液面配管内的所述液面之上的配管空间供给气体;以及控制部,与所述气体被所述供气配管向所述配管空间供给而所述液面配管内的所述液面移动相对应地,基于所述液面传感器的检测结果判断所述液面传感器有无误检测。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于芝浦机械电子株式会社,未经芝浦机械电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710200801.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top