[发明专利]LED反射电极及其制作方法

摘要

本申请公开LED反射电极及其制作方法，方法依次包括：采用负性光刻胶做出电极图形并显影，负性光刻胶呈现倒梯形；保持蒸镀腔的压力为10⁵torr至10⁶torr，温度为10℃至30℃，依次蒸镀欧姆接触金属层、反射金属层、连接金属层和隔离金属层；保持蒸镀腔的压力为10⁵torr至10⁶torr，将蒸镀腔的温度升高到100℃‑150℃，在隔离金属层上方蒸镀焊接金属层，负性光刻胶产生玻璃化，倒梯形状的负性光刻胶向欧姆接触层、反射金属层、连接金属层和隔离金属层的方向回缩，使得焊接金属层将欧姆接触层、反射金属层、连接金属层和隔离金属层包覆起来。如此，将反射金属层与外界隔绝，有利于提高反射电极的可靠性。

主权项

1.一种LED反射电极制作方法，其特征在于，依次包括：采用负性光刻胶做出电极图形并显影，所述负性光刻胶呈现倒梯形；保持蒸镀腔的压力为10⁵torr至10⁶torr，温度为10℃至30℃，依次蒸镀欧姆接触金属层、反射金属层、连接金属层和隔离金属层；其中，所述欧姆接触金属层的厚度为10埃至50埃，蒸镀所述欧姆接触金属层的速镀膜率为0.1埃/秒至1埃/秒，蒸镀所述欧姆接触金属层的功率为200w至1000w；所述反射金属层的厚度为1000埃至3000埃，蒸镀所述反射金属层的速镀膜率为4埃/秒至10埃/秒，蒸镀所述反射金属层的功率为3000w至6000w；所述连接金属层的厚度为200埃至600埃，蒸镀所述连接金属层的速镀膜率为0.5埃/秒至2埃/秒，蒸镀所述连接金属层的功率为200w至1000w；所述隔离金属层的厚度为200埃至600埃，蒸镀所述隔离金属层的速镀膜率为2埃/秒至6埃/秒，蒸镀所述隔离金属层的功率为2000w至4000w；保持蒸镀腔的压力为10⁵torr至10⁶torr，将蒸镀腔的温度升高到100℃‑150℃，保持速镀膜率为5埃/秒至10埃/秒，并保持蒸镀功率为3000w至6000w，在所述隔离金属层上方蒸镀材质为惰性金属的焊接金属层，所述负性光刻胶产生玻璃化，倒梯形状的负性光刻胶向所述欧姆接触层、所述反射金属层、所述连接金属层和所述隔离金属层的方向回缩，使得所述焊接金属层将所述欧姆接触层、所述反射金属层、所述连接金属层和所述隔离金属层包覆起来，其中，所述焊接金属层的厚度为0.5微米至3微米。