[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板及显示装置有效

专利信息
申请号: 201710098499.8 申请日: 2017-02-22
公开(公告)号: CN108470717B 公开(公告)日: 2021-04-06
发明(设计)人: 刘威 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L21/77 分类号: H01L21/77;H01L27/12
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板及显示装置,涉及显示技术领域,可降低制作阵列基板过程中的不良发生率。该阵列基板的制备方法包括在衬底上,通过一次构图工艺形成金属导电材料的遮光层、栅线;通过一次构图工艺形成缓冲层,缓冲层包括第一过孔和第二过孔;第一过孔露出栅线,第二过孔露出遮光层;通过一次构图工艺形成氧化物有源层和栅绝缘层;通过一次构图工艺形成第一电极层,所述第一电极层包括栅极、源极、漏极、数据线和第一连接电极;第一连接电极与栅极、源极、漏极和数据线均绝缘,且第一连接电极通过第一过孔与栅线电连接;源极和漏极与氧化物有源层直接接触,且源极还通过第二过孔与遮光层电连接。
搜索关键词: 阵列 及其 制备 方法 显示 面板 显示装置
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:衬底,依次设置在所述衬底上的遮光层、缓冲层、氧化物有源层、栅绝缘层、第一电极层;栅线与所述遮光层同层设置;所述氧化物有源层在所述衬底上的正投影被所述遮光层在所述衬底上的正投影覆盖;所述缓冲层包括第一过孔和第二过孔;所述第一过孔露出所述栅线,所述第二过孔露出所述遮光层;所述第一电极层包括栅极、源极、漏极、与所述源极连接的数据线和第一连接电极;所述第一连接电极与所述栅极、所述源极、所述漏极和所述数据线均绝缘,且所述第一连接电极通过所述第一过孔与所述栅线电连接;所述源极和所述漏极与所述氧化物有源层直接接触,且所述源极还通过所述第二过孔与所述遮光层电连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710098499.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top