[发明专利]一种阵列基板、显示装置以及阵列基板的制备方法有效

专利信息
申请号: 201710071850.4 申请日: 2017-02-09
公开(公告)号: CN106847826B 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 臧鹏程;黄炜赟;王杨 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L23/60;H01L21/77
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明实施例提供一种阵列基板、显示装置以及阵列基板的制备方法,涉及显示技术领域,能够解决阵列基板的工艺制程中,在形成最后一层导电层之前,已经形成的金属层上的静电累积难以导出的问题。包括设置在衬底基板上的第一金属层、第二金属层、以及位于第一金属层和第二金属层之间的绝缘层,第一金属层包括第一信号线引线,还包括位于绝缘层和第二金属层之间的半导体层,半导体层包括半导体图案。第二金属层包括第一除静电辅助图案,第一除静电辅助图案与半导体图案电连接。在第一信号线引线的侧边有第一尖端突出部,至少一个第一尖端突出部的尖端在半导体层的正投影位于半导体图案的边界内,构成金属绝缘层半导体MIS结构。
搜索关键词: 一种 阵列 显示装置 以及 制备 方法
【主权项】:
一种阵列基板,包括设置在衬底基板上的第一金属层、第二金属层、以及位于所述第一金属层和所述第二金属层之间的绝缘层,所述第一金属层包括设置于非显示区域的第一信号线引线,其特征在于,还包括:位于所述绝缘层和所述第二金属层之间的半导体层,所述半导体层包括位于所述非显示区域的半导体图案;所述第二金属层包括设置于非显示区域的第一除静电辅助图案,所述第一除静电辅助图案与所述半导体图案电连接;在所述第一信号线引线的侧边突出设置有第一尖端突出部,至少一个所述第一尖端突出部的尖端在所述半导体层的正投影位于所述半导体图案的边界范围内,构成金属绝缘层半导体MIS结构。
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