[发明专利]相移底板掩模和光掩模

摘要

公开一种相移底板掩模和光掩模，其中相移膜形成为至少两个或更多层的多层膜或者连续膜，所述相移膜的膜由可以相对于一种蚀刻剂进行蚀刻并且成分彼此不同的材料组成，而且成分不同的所述膜中的每个堆叠一次或多次。因此，有可能减少所述相移膜的厚度，并且使边缘处的截面具有陡峭坡度，以使得在所述相移膜被图案化时相移膜图案可以具有清晰边界，从而保证所述相移膜图案的透射率和相移度的均匀性。另外，有可能改进所述相移膜图案和印刷图案的精度。

主权项

一种相移底板掩模，其包括在透明衬底上形成的相移膜，所述相移膜包括至少具有两层或更多层的多层膜，并且包括由氧(O)、氮(N)和碳(C)中的至少一个构成的金属硅化物化合物。