[发明专利]填充通孔以减少空隙和其它缺陷的方法在审

专利信息
申请号: 201710066334.2 申请日: 2017-02-06
公开(公告)号: CN107087353A 公开(公告)日: 2017-08-22
发明(设计)人: N·嘉雅拉朱;L·巴斯塔德 申请(专利权)人: 罗门哈斯电子材料有限责任公司
主分类号: H05K3/42 分类号: H05K3/42
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司31100 代理人: 陈哲锋,胡嘉倩
地址: 美国马*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 直流电镀覆方法抑制空隙形成,减少凹陷并且消除节结。所述方法涉及在高电流密度下电镀铜,接着在较低电流密度下电镀以填充通孔。
搜索关键词: 填充 减少 空隙 其它 缺陷 方法
【主权项】:
一种方法,其包含:a)提供具有多个通孔的衬底,包含在所述衬底的表面和所述多个通孔的壁上的无电铜、闪镀铜或其组合的层;b)将所述衬底浸没在包含阳极的铜电镀浴中;以及c)通过包含以下的直流电循环用铜填充所述通孔:施加电流密度持续第一预定时间段,接着施加较低电流密度持续第二预定时间段。
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