[发明专利]一种氮化镓基发光二极管的外延片及其制作方法有效
申请号: | 201710021779.9 | 申请日: | 2017-01-12 |
公开(公告)号: | CN106876530B | 公开(公告)日: | 2019-03-08 |
发明(设计)人: | 王群;郭炳磊;董彬忠;李鹏;王江波 | 申请(专利权)人: | 华灿光电(浙江)有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L33/06;H01L33/32 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 徐立 |
地址: | 322000 浙江省金华市义*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种氮化镓基发光二极管的外延片及其制作方法,属于半导体技术领域。所述外延片包括蓝宝石衬底、以及依次层叠在所述蓝宝石衬底上的GaN缓冲层、未掺杂GaN层、N型GaN层、多量子阱层、P型电子阻挡层、P型GaN层,所述外延片还包括层叠在所述N型GaN层和所述多量子阱层之间的电子改善层,所述电子改善层由AlGaN层和石墨烯薄膜层交替层叠而成。本发明通过AlGaN层调控电子注入多量子阱层的数量,石墨烯薄膜层提高载流子的平面铺展能力,对电子迅速进行横向铺展,调整电子在多量子阱层内的分布,改善电子注入多量子阱层的均匀性,减少电子溢流,增大多量子阱层的发光面积,提高发光二极管的发光效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 氮化 发光二极管 外延 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种氮化镓基发光二极管的外延片,所述外延片包括蓝宝石衬底、以及依次层叠在所述蓝宝石衬底上的GaN缓冲层、未掺杂GaN层、N型GaN层、多量子阱层、P型电子阻挡层、P型GaN层,其特征在于,所述外延片还包括层叠在所述N型GaN层和所述多量子阱层之间的电子改善层,所述电子改善层由AlGaN层和石墨烯薄膜层交替层叠而成;所述电子改善层的厚度为10~100nm。
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