[发明专利]一种掩膜板、显示基板及其制作方法有效
申请号: | 201710003384.6 | 申请日: | 2017-01-04 |
公开(公告)号: | CN106773521B | 公开(公告)日: | 2020-01-21 |
发明(设计)人: | 江鹏;王德君;杨海鹏;戴珂 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00 |
代理公司: | 11243 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人: | 许静;刘伟 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及显示技术领域,公开了一种掩膜板、显示基板及其制作方法。所述显示基板的非显示区域分割为多个子非显示区域,并在每一子非显示区域制作端子,用于连接驱动芯片,且相邻子非显示区域对应的端子通过桥接线电性连接,最靠近显示区域的子非显示区域的端子与显示区域的信号线电性连接,实现所有子非显示区域的端子连接驱动芯片时,均能够向显示区域提供所需的显示信号。在子非显示区域的外边缘的外侧且靠近外边缘的位置切割显示基板,可以获得不同尺寸规格的显示基板,所述显示基板由一具有相应掩膜图形的掩膜板制作,因此,通过同一掩膜板可以完成多种尺寸规格的显示面板的制作,降低了生产成本,缩短了开发周期。 | ||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 显示 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种掩膜板,所述掩膜板包括第一区域和环设在所述第一区域外围的第二区域,所述第一区域用于制作显示基板的显示区域,所述第二区域用于制作显示基板的非显示区域,其特征在于,所述第二区域分割为至少两个环状的子掩膜区域,所述子掩膜区域环设在所述第一区域的外围;/n所述子掩膜区域包括至少一个端子图形区,每一端子图形区设置有多个端子图形,所述端子图形用在所述显示基板上制作端子;/n所述第二区域还包括多条第一连接图形,所述第一连接图形用于在所述显示基板上制作第一桥接线,所述第一连接图形从其中一个子掩膜区域延伸至相邻的另一子掩膜区域;相邻两个子掩膜区域对应的两个端子图形通过所述第一连接图形连接,其中,所述对应的两个端子图形在显示基板上制作的两个端子用于传输同一信号;/n在第一区域的同一侧,相邻两个子掩膜区域的端子图形的位置一一对应,且位置对应的端子图形通过所述第一连接图形连接。/n
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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