[发明专利]有机电子元件的制造方法及有机薄膜的形成方法在审
| 申请号： | 201680036216.0 | 申请日： | 2016-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN107710874A | 公开（公告）日： | 2018-02-16 |
| 发明（设计）人： | 佐佐修一;六原行一 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | H05B33/10 | 分类号： | H05B33/10;B05D3/06;B05D7/00;H01L21/336;H01L29/786;H01L31/02;H01L31/10;H01L51/05;H01L51/30;H01L51/48;H01L51/50;H05B33/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 葛凡 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的一个实施方式的有机电子元件的制造方法具备将包含具有交联性基团的材料的涂布液涂布于基板(10)上而形成涂布膜的工序；和利用向涂布膜的红外线的照射来加热涂布膜(23a)、使交联性基团交联、由此形成作为有机功能层(23)的有机薄膜的工序，涂布膜在第一波长范围1.2μm～5.0μm的任意波长下具有吸收峰，红外线是在第一波长范围的任意波长下具有波长范围1.2μm～10.0μm的最大发射强度、并且在第一波长范围中包含波长范围1.2μm～10.0μm的红外线的总发射能量的80％以上的红外线。 | ||
| 搜索关键词： | 有机 电子元件 制造 方法 薄膜 形成 | ||
【主权项】：
一种有机电子元件的制造方法，是具有有机功能层的有机电子元件的制造方法，该制造方法具备：涂布膜形成工序，将包含具有交联性基团的材料的涂布液涂布于塑料基板上而形成涂布膜；以及有机薄膜形成工序，利用向所述涂布膜的红外线的照射来加热所述涂布膜，使所述交联性基团交联，由此形成作为所述有机功能层的有机薄膜，所述涂布膜在第一波长范围1.2μm～5.0μm的任意波长下具有吸收峰，所述红外线是在所述第一波长范围的任意波长下具有波长范围1.2μm～10.0μm的最大发射强度、并且在所述第一波长范围中包含波长范围1.2μm～10.0μm的所述红外线的总发射能量的80％以上的红外线。
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