[发明专利]有机电子元件的制造方法及有机薄膜的形成方法

说明书

技术领域

本发明涉及有机电子元件的制造方法及有机薄膜的形成方法。

背景技术

有机电致发光元件(以下有时称作“有机EL元件”)、有机光电转换元件、以及有机薄膜晶体管等有机电子元件具备具有给定的功能的有机薄膜，该有机薄膜由基板支撑。

有机电子元件所具有的有机薄膜例如如专利文献1中公开所示，利用涂布法形成。专利文献1的技术中，首先，在作为涂布对象物的基板上，涂布有机薄膜用的有机材料而形成涂布膜。其后，向涂布膜照射激光而使涂布膜干燥，由此形成有机薄膜。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2006/064792号

发明内容

发明所要解决的问题

如果向涂布膜照射像激光那样强的光，则可以在短时间内将涂布膜加热干燥。然而，会有在塑料基板中产生损伤的情况。

因而，本发明的目的在于，提供可以在减少对塑料基板的损伤的同时形成有机薄膜的有机电子元件的制造方法及有机薄膜的形成方法。

用于解决问题的方法

本发明的一个方面的有机电子元件的制造方法是具有有机功能层的有机电子元件的制造方法，该制造方法具备：涂布膜形成工序，将包含具有交联性基团的材料的涂布液涂布于塑料基板上而形成涂布膜；和有机薄膜形成工序，利用向涂布膜的红外线的照射来加热涂布膜，使交联性基团交联，由此形成作为有机功能层的有机薄膜，涂布膜在第一波长范围1.2μm～5.0μm的任意波长下具有吸收峰，红外线是在第一波长范围的任意波长下具有波长范围1.2μm～10.0μm的最大发射强度、并且在第一波长范围中包含波长范围1.2μm～10.0μm的红外线的总发射能量的80％以上的红外线。

本发明的另一个方面的有机薄膜的形成方法具备：涂布膜形成工序，将包含具有交联性基团的材料的涂布液涂布于塑料基板上而形成涂布膜；和有机薄膜形成工序，利用向涂布膜的红外线的照射来加热涂布膜，使交联性基团交联，由此形成有机薄膜，涂布膜在第一波长范围1.2μm～5.0μm的任意波长下具有吸收峰，红外线是在第一波长范围的任意波长下具有波长范围1.2μm～10.0μm的最大发射强度、并且在第一波长范围中包含波长范围1.2μm～10.0μm的红外线的总发射能量的80％以上的红外线。

交联反应(包括聚合反应)因光及热的至少一方而产生。上述有机电子元件的制造方法及有机薄膜的形成方法中，利用包含具有交联性基团的材料的涂布液，用红外线来加热涂布膜。向涂布膜照射的红外线是在第一波长范围的任意波长下具有最大发射强度、并且在第一波长范围中包含波长范围1.2μm～10.0μm的红外线的总发射能量的80％以上的红外线。另一方面，涂布膜在第一波长范围的任意波长下具有吸收峰。由此，红外线被涂布膜有效地吸收，因此可以在更短时间内使涂布膜中所含的交联性基团交联。由此，可以在有机薄膜形成工序中缩短向涂布膜照射红外线的时间，因此可以在减少对塑料基板的损伤的同时形成有机薄膜。

一个实施方式的有机电子元件的制造方法及有机薄膜的形成方法中，在构成塑料基板的塑料材料的吸收光谱中，优选第一波长范围的积分值小于第二波长范围的积分值。

由此，即使红外线在第一波长范围中具有更大的发射能量，第一波长范围的红外线也难以由基板吸收。其结果是，即使向涂布膜照射红外线，也难以产生对塑料基板的损伤。

在一个实施方式的有机电子元件的制造方法及有机薄膜的形成方法中，优选涂布膜还在第二波长范围的任意波长下具有吸收峰，在红外线的发射光谱与涂布膜的吸收光谱的叠加的光谱中，第一波长范围的积分值大于第二波长范围的积分值。

该情况下，在红外线的发射光谱与涂布膜的吸收光谱的叠加的光谱中第一波长范围的积分值大于第二波长范围的积分值，另一方面，涂布膜在第二波长范围中具有吸收峰。由此，就可以在用第一波长范围的红外线主要加热涂布膜的同时，利用第二波长范围的红外线加热涂布膜。由此，涂布膜的加热效率提高，能够在更短时间内将涂布膜中所含的交联性基团交联。其结果是，塑料基板的温度的过度升高得到进一步抑制，可以减少红外线对基板造成的影响。

在一个实施方式的有机电子元件的制造方法及有机薄膜的形成方法中，在红外线的发射光谱与涂布膜的吸收光谱的叠加的光谱中，在将第一波长范围的积分值设为A1、将第二波长范围的积分值设为A2时，优选A1/(A1+A2)为0.6以上。

如果A1及A2满足上述关系式，则可以在抑制塑料基板的由红外线吸收造成的温度的过度升高的同时，在短时间内进行涂布膜的交联反应。