[实用新型]高频高增益硅PNP型开关晶体管有效

专利信息
申请号: 201620252077.2 申请日: 2016-03-29
公开(公告)号: CN205508824U 公开(公告)日: 2016-08-24
发明(设计)人: 龚利汀;陈丽兰 申请(专利权)人: 无锡固电半导体股份有限公司
主分类号: H01L29/732 分类号: H01L29/732;H01L29/06
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人: 曹祖良;朱建均
地址: 214062 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型提供一种高频高增益硅PNP型开关晶体管,包括晶体管单元体,所述单元体包括基区扩散保护环、背面金属层、P型重掺杂衬底、P型外延层、N型基区、P型发射区、增阻环、钝化层、发射极金属和两个基极金属。本实用新型主要应用在变频调速与和节能设备,具有电流大,频率高,增益大,饱和压降低,开关速度快等特点。
搜索关键词: 高频 增益 pnp 开关 晶体管
【主权项】:
高频高增益硅PNP型开关晶体管,包括晶体管单元体,所述单元体包括基区扩散保护环(10)、背面金属层(9)、P型重掺杂衬底(8)、P型外延层(7)、N型基区(6)、P型发射区(5)、增阻环(4)、钝化层(3)、发射极金属(2)和基极金属(1)两个,其特征在于:所述背面金属层(9)位于P型重掺杂衬底(8)下且邻接,所述P型外延层(7)位于P型重掺杂衬底(8)上且邻接,所述N型基区(6)位于P型外延层(7)上,所述N型基区(6)外围设有基区扩散保护环(10),所述P型发射区(5)设于N型基区(6)内,所述增阻环(4)位于P型发射区(5)外围且设于N型基区(6)内,所述钝化层(3)覆盖在N型基区(6)上,所述发射极金属(2)覆盖在P型发射区(5)上,所述两个基区金属(1)覆盖在N型基区(6)上,且位于单元体两侧,所述基区金属(1)和发射极金属(2)之间均通过钝化层(3)隔开,所述增阻环(4)上覆盖着钝化层(3)。
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