[发明专利]等离子体沉积装置

摘要

一种等离子体沉积装置，包括：腔室；气体供应部，向腔室供应气体；以及喷头，设置在腔室的内部，与气体供应部连接。其中，气体供应部包括使气体流入的流入管、以及与流入管连接的至少两个流出管。此外，喷头包括：上板，具有与流出管连接的多个注入口；以及下板，与上述上板分离，且具有喷射口。

主权项

1.一种等离子体沉积装置，其特征在于，包括：腔室；气体供应部，向上述腔室供应气体；喷头，设置在上述腔室的内部，与上述气体供应部连接；以及气体扩散部，上述气体供应部包括：流入管，使上述气体流入；以及至少两个流出管，与上述流入管连接，上述喷头包括：上板，具有与上述流出管连接的多个注入口；以及下板，与上述上板分离，具有喷射口，上述注入口中的一个注入口设置于上述上板的中心，上述注入口中的其余注入口以上述上板的中心为基准对称设置，上述气体扩散部设置在上述上板和上述下板之间，用于使气体扩散。