[发明专利]等离子体沉积装置

说明书

一种等离子体沉积装置，包括：腔室；气体供应部，向腔室供应气体；以及喷头，设置在腔室的内部，与气体供应部连接。其中，气体供应部包括使气体流入的流入管、以及与流入管连接的至少两个流出管。此外，喷头包括：上板，具有与流出管连接的多个注入口；以及下板，与上述上板分离，且具有喷射口。

技术领域

本发明涉及等离子体沉积装置，涉及包含对喷头供应清洗气体的气体供应部的等离子体沉积装置。

背景技术

显示装置根据发光方式分为液晶显示装置(liquid crystal display，LCD)、有机发光显示装置(organic light emitting diode display，OLED display)、等离子体显示装置(plasma display panel，PDP)、以及电泳显示装置(electrophoreticdisplay)等。

这样的显示装置可以包含在基板上层叠的栅电极、数据电极、像素电极、以及晶体管。其中，栅电极、数据电极、以及像素电极层叠在互不相同的层。为此，可以在栅电极和数据电极之间层叠绝缘层。此外，可以在数据电极和像素电极之间层叠绝缘层。绝缘层利用等离子体沉积装置被涂在基板上的整个面。为了形成绝缘层，可以利用氮化硅或氧化硅等成膜物质。

另一方面，在形成绝缘层的成膜工序之后，需要去除在等离子体沉积装置的内部存在的成膜物质。成膜物质利用化学反应去除。即，成膜物质由被活化的清洗气体分解去除。因而，为了去除成膜物质，将被活化的清洗气体无损耗地向等离子体沉积装置内部供应的构造较为重要。

发明内容

本发明的一实施例提供能够使用于去除腔室内部成膜物质的被活化的清洗气体的损耗最小化的等离子体沉积装置。

本发明所涉及的等离子体沉积装置的一实施例，其特征在于，包括：腔室；气体供应部，向上述腔室供应气体；以及喷头，设置在上述腔室的内部，与上述气体供应部连接，上述气体供应部包括：流入管，使上述气体流入；以及至少两个流出管，与上述流入管连接，上述喷头包括：上板，具有与上述流出管连接的多个注入口；以及下板，与上述上板分离，具有喷射口，上述注入口中的一个注入口设置于上述上板的中心，上述注入口中的其余的注入口以上述上板的中心为基准对称设置。

此外，其特征在于，还包括气体扩散部，设置在上述上板和上述下板之间，用于使气体扩散。

此外，其特征在于，上述流出管与上述流入管交点在上述注入口的平面上位于左右对称轴或者上下对称轴上。

此外，其特征在于，上述气体扩散部具有圆锥状。

此外，其特征在于，上述气体扩散部中的至少两个具有斜圆锥状。

此外，其特征在于，上述气体扩散部设置在上述注入口的下部。

此外，其特征在于，上述流出管的内径为27mm以上且33mm以下。

此外，其特征在于，上述流出管包括第1流出管、第2流出管、以及第3流出管，上述第1流出管至第3流出管中的至少一个包括：第1分管，沿一个方向设置；第2分管，被设置为与上述第1分管具有一定角度；以及第3分管，与上述喷头的边缘平行地设置，且连接上述注入口中的至少两个注入口，上述第2分管的一端连接到上述第3分管的两端部之间的中心。

此外，其特征在于，在由经过上述上板的中心的第1对称轴和与上述第1对称轴正交的第2对称轴所划分的上述上板的划分区域中，上述注入口中的至少一个注入口设置在上述划分区域的中心和上述喷头的边缘之间。

此外，其特征在于，还包括绝缘部，设置在上述喷头和上述腔室之间，用于使上述喷头绝缘。

根据本发明的一实施例，通过将注入清洗气体的注入口对称地设置在喷头，能够使发生在喷头的内部填充空间的被活化的清洗气体的损失最小化。