[发明专利]等离子体沉积装置

权利要求书

1.一种等离子体沉积装置，其特征在于，包括：

腔室；

气体供应部，向上述腔室供应气体；

喷头，设置在上述腔室的内部，与上述气体供应部连接；以及

气体扩散部，

上述气体供应部包括：

流入管，使上述气体流入；以及

至少两个流出管，与上述流入管连接，

上述喷头包括：

上板，具有与上述流出管连接的多个注入口；以及

下板，与上述上板分离，具有喷射口，

上述注入口中的一个注入口设置于上述上板的中心，

上述注入口中的其余注入口以上述上板的中心为基准对称设置，

上述气体扩散部设置在上述上板和上述下板之间，用于使气体扩散。

2.如权利要求1所述的等离子体沉积装置，其特征在于，

上述流出管与上述流入管的交点在上述注入口的平面上位于左右对称轴或者上下对称轴上。

3.如权利要求1所述的等离子体沉积装置，其特征在于，

上述气体扩散部具有圆锥状。

4.如权利要求3所述的等离子体沉积装置，其特征在于，

上述气体扩散部中的至少两个具有斜圆锥状。

5.如权利要求4所述的等离子体沉积装置，其特征在于，

上述气体扩散部设置在上述注入口的下部。

6.如权利要求1所述的等离子体沉积装置，其特征在于，

上述流出管的内径为27mm以上且33mm以下。

7.如权利要求1所述的等离子体沉积装置，其特征在于，

上述流出管包括第1流出管、第2流出管、以及第3流出管，

上述第1流出管至第3流出管中的至少一个包括：

第1分管，沿一个方向设置；

第2分管，被设置为与上述第1分管具有一定角度；以及

第3分管，与上述喷头的边缘平行地设置，且连接上述注入口中的至少两个注入口，

上述第2分管的一端连接到上述第3分管的两端部之间的中心。

8.如权利要求1所述的等离子体沉积装置，其特征在于，

在由经过上述上板的中心的第1对称轴和与上述第1对称轴正交的第2对称轴所划分的上述上板的划分区域中，

上述注入口中的至少一个注入口设置在上述划分区域的中心和上述喷头的边缘之间。

9.如权利要求1所述的等离子体沉积装置，其特征在于，

还包括绝缘部，设置在上述喷头和上述腔室之间，用于使上述喷头绝缘。