[发明专利]制作在传感器表面的可提高光传感器灵敏度的结构

摘要

本发明公开了制作在传感器表面的可提高光传感器灵敏度的结构。本发明利用CMOS传感器的感光像素中的无效面积，通过在金属膜上制作一些特别设计的微纳结构，可以使局部透过率大大增强，使光信号在穿过金属膜后将无效面积的光照有效聚集到有效感光位置，从而提高传感器的灵敏度。该特别设计的微纳结构可以方便地覆盖在光电探测器、传感器、影像器等部件的表面，达到提高其灵敏度的效果。本发明也适用于其他芯片/结构/器件的有效透光效率增加。

主权项

1.一种制作在传感器表面的可提高光传感器灵敏度的结构，其特征在于：CMOS光电传感器或光学镜头表面镀有金属膜，光学镜头放置在CMOS光电传感器上，金属膜上按阵列分布若干个子结构，每个子结构由中心过孔与一系列同心环组成；每个子结构一一对应于CMOS光电传感器的物理像素，此时阵列结构的几何尺寸周期与CMOS光电传感器的物理像素几何尺寸周期相同或相近；子结构包括透光部分和不透光部分，光电传感器物理像素的有效感光部分和子结构的透光部分相对应；同时，物理像素的无效感光部分和子结构的不透光部分相对应，并通过子结构的不透光部分的环结构激发表面等离子波，以把这部分光的能量部分搜集起来并从子结构的透光部分透射过去。