[发明专利]薄膜晶体管基底和显示装置有效
申请号: | 201611126307.1 | 申请日: | 2016-12-09 |
公开(公告)号: | CN106876404B | 公开(公告)日: | 2022-06-24 |
发明(设计)人: | 全渊文;宋旼哲;林成洙;金羊熙 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L29/417;H01L29/10 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 刘灿强;韩明花 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供了一种薄膜晶体管基底和显示装置。薄膜晶体管基底包括基底以及在基底上面沿第一方向和第二方向布置的薄膜晶体管。每个薄膜晶体管包括栅电极、漏电极、源电极和半导体层。漏电极在栅电极上面,并且包括第一漏极倾斜部分以及从第一漏极倾斜部分的端部延伸的第二漏极倾斜部分。源电极在栅电极上面与漏电极分隔开,并且包括第一源极倾斜部分以及从第一源极倾斜部分的端部延伸的第二源极倾斜部分。半导体层与栅电极至少部分地叠置,并且包括连接到漏电极的漏区、连接到源电极的源区以及设置在漏区和源区之间的沟道区。 | ||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 基底 显示装置 | ||
【主权项】:
一种薄膜晶体管基底,所述薄膜晶体管基底包括:基底;以及多个薄膜晶体管,在所述基底上面沿第一方向和第二方向布置,其中,所述多个薄膜晶体管中的每个包括:栅电极,位于所述基底上;漏电极,位于所述栅电极上面,并且包括:第一漏极倾斜部分,在所述第一方向和所述第二方向之间的方向上延伸,以及第二漏极倾斜部分,在与所述第一方向相反的方向和所述第二方向之间的方向上从所述第一漏极倾斜部分的端部延伸;源电极,在所述栅电极上面与所述漏电极分隔开,并且包括:第一源极倾斜部分,在所述第一方向和所述第二方向之间的所述方向上延伸,以及第二源极倾斜部分,在与所述第一方向相反的所述方向和所述第二方向之间的方向上从所述第一源极倾斜部分的端部延伸;以及半导体层,与所述栅电极至少部分地叠置,并且包括:漏区,连接到所述漏电极,源区,连接到所述源电极,以及沟道区,位于所述漏区和所述源区之间。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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