[发明专利]一种用于晶体生长的调节反应釜及其控制方法有效
| 申请号： | 201611110488.9 | 申请日： | 2016-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN106757359B | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | 李成明;张国义;李顺峰;童玉珍;卢洪 | 申请（专利权）人： | 北京大学东莞光电研究院 |
| 主分类号： | C30B29/40 | 分类号： | C30B29/40;C30B9/10 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 罗晓林;杨桂洋 |
| 地址： | 523000 广东省东莞*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于晶体生长的调节反应釜及其控制方法，包括釜体和设在釜体内的加热器，所述釜体内至少设置一个晶体生长用坩埚和一个反应物溶液调整坩埚，该晶体生长用坩埚和反应物溶液调整坩埚通过充满反应物溶液的连通管路连接，釜体上设有升降移动控制机构，该升降移动控制机构分别与晶体生长用坩埚和反应物溶液调整坩埚连接，带动该晶体生长用坩埚和反应物溶液调整坩埚上升或下降。本发明实现反应物液体在两个坩埚间循环流动，该流动会进一步促进反应物液面的波动，增强反应物液体与氮气的进一步混合，提高材料生长速率和质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 晶体生长 调节 反应 及其 控制 方法 | ||
【主权项】：
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