[发明专利]挡板、等离子体处理设备、基板处理设备和处理基板方法在审
| 申请号： | 201611103022.6 | 申请日： | 2016-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN106941068A | 公开（公告）日： | 2017-07-11 |
| 发明（设计）人： | 姜盛皓;金基哲;李在铉;文平;李汉基;金彦起 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/324 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司11286 | 代理人： | 刘灿强,尹淑梅 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了一种挡板、一种使用挡板的等离子体处理设备、一种基板处理设备和一种处理基板的方法。所述等离子体处理设备包括基座、容纳基座并且包围反应空间的室外壳以及环形地围绕基座的环形挡板。挡板包括具有导电材料的第一层和具有非导电材料的第二层，并且第二层比第一层接近于反应空间。 | ||
| 搜索关键词： | 挡板 等离子体 处理 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种等离子体处理设备，所述等离子体处理设备包括：基座；室外壳，容纳基座并且包围反应空间；以及环形挡板，围绕基座，其中，挡板包括具有导电材料的第一层和具有非导电材料的第二层，并且第二层比第一层接近于反应空间。
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