[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201610930229.4 申请日: 2016-10-31
公开(公告)号: CN106684095B 公开(公告)日: 2020-02-14
发明(设计)人: 操彬彬;林致远;杨成绍;黄寅虎 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1362;G02F1/1368
代理公司: 11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司 代理人: 彭瑞欣;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种阵列基板及其制备方法、显示装置。该阵列基板,包括透明衬底基板,在所述透明衬底基板上形成有金属布线和薄膜晶体管,在所述金属布线与所述透明衬底基板之间形成有漫反射层。本发明,可以在外界环境光照射在金属布线上时发生漫反射,也就减少了反射光的光强,因而可以提升对比度和增强显示效果,从而可以改善无边框显示器件的性能。
搜索关键词: 阵列 及其 制备 方法 显示装置
【主权项】:
1.一种阵列基板的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:/n提供透明衬底基板;/n在所述透明衬底基板上形成金属布线,且在所述金属布线和所述透明衬底基板之间形成有漫反射层;/n所述形成漫反射层,包括:/n在透明衬底基板上形成透明电极层;/n在所述透明电极层上形成光刻胶层;/n采用灰阶掩膜板执行一次构图工艺,使所述透明电极层形成包括需要形成漫反射层的区域和被光刻胶覆盖的用于显示的电极的图形;/n对所述需要形成漫反射的区域进行处理,以使其形成所述漫反射层;/n去除位于所述用于显示的电极上的光刻胶。/n
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