[发明专利]半导体装置有效

专利信息
申请号: 201610883987.5 申请日: 2016-10-10
公开(公告)号: CN106571368B 公开(公告)日: 2022-01-25
发明(设计)人: 李雄燮;崔钟允;辛镇铉;李东植 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/11551 分类号: H01L27/11551;H01L27/11578
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 刘灿强;尹淑梅
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了一种半导体装置。所述半导体装置包括:堆叠件,包括交替且重复地堆叠在基底上的绝缘层和栅电极;下半导体图案,从基底沿竖直方向突出到堆叠件中;下半导体图案的上部,具有在远离基底的方向上逐渐减小的宽度;沟道结构,竖直地贯穿堆叠件并连接到下半导体图案;以及绝缘填隙图案,在沟道结构内部,其中,绝缘填隙图案的底表面低于下半导体图案的上部的底。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
一种半导体装置,所述半导体装置包括:堆叠件,包括交替且重复地堆叠在基底上的绝缘层和栅电极;下半导体图案,从基底沿竖直方向突出到堆叠件中;下半导体图案的上部,具有在远离基底的方向上逐渐减小的宽度;沟道结构,竖直地贯穿堆叠件并连接到下半导体图案;以及绝缘填隙图案,在沟道结构内部,其中,绝缘填隙图案的底表面低于下半导体图案的上部的底。
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