[发明专利]T2造影剂及其制备方法和用途有效
| 申请号： | 201610802400.3 | 申请日： | 2016-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN107789635B | 公开（公告）日： | 2021-01-01 |
| 发明（设计）人： | 王春儒;卢志高;甄明明 | 申请（专利权）人： | 中国科学院化学研究所 |
| 主分类号： | A61K49/08 | 分类号： | A61K49/08;A61K47/02;A61K47/04 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 李志东 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种T2造影剂及其制备方法和用途，所述T2造影剂包括钆基纳米材料和二氧化硅层，其中二氧化硅层包覆在所述钆基纳米材料的至少一部分外表面。该T2造影剂具有良好的水溶性和生物相容性，且该T2造影剂尤其适合用来在高场下观察病灶部位的精细结构，造影效果优异。 | ||
| 搜索关键词： | t2 造影 及其 制备 方法 用途 | ||
【主权项】：
一种T2造影剂，其特征在于，包括：钆基纳米材料；二氧化硅层，所述二氧化硅层包覆在所述钆基纳米材料的至少一部分外表面。
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