[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 201610763438.4 申请日: 2016-08-29
公开(公告)号: CN106098710A 公开(公告)日: 2016-11-09
发明(设计)人: 李坤 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置,涉及显示技术领域,当阵列基板中电极通过过孔与漏极相连接时,能够减小过孔区域的落差,降低电极与漏极在该过孔区域出现接触不良的几率。该阵列基板包括设置于衬底基板上的薄膜晶体管,以及依次设置在薄膜晶体管上的第一绝缘层、第二绝缘层、第一电极,在薄膜晶体管的漏极所在位置处,第一绝缘层具有第一过孔,第二绝缘层具有第二过孔,该阵列基板还包括:位于第一绝缘层与第二绝缘层之间的导电图案,导电图案覆盖第一过孔、并与漏极接触,第一电极覆盖第二过孔、并与导电图案接触。
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制备 方法 显示装置
【主权项】:
一种阵列基板,其特征在于,包括:设置于衬底基板上的薄膜晶体管,以及依次设置在所述薄膜晶体管上的第一绝缘层、第二绝缘层、第一电极,在所述薄膜晶体管的漏极所在位置处,所述第一绝缘层具有第一过孔,所述第二绝缘层具有第二过孔;所述阵列基板还包括:位于所述第一绝缘层与所述第二绝缘层之间的导电图案,所述导电图案覆盖所述第一过孔、并与所述漏极接触,所述第一电极覆盖所述第二过孔、并与所述导电图案接触。
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