[发明专利]图像传感器及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201610717079.9 申请日: 2016-08-25
公开(公告)号: CN106653780A 公开(公告)日: 2017-05-10
发明(设计)人: 王子睿;杨敦年;刘人诚;许慈轩;山下雄一郎 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司11409 代理人: 章社杲,李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明的实施例提供了一种图像传感器结构及其形成方法。图像传感器结构包括衬底,该衬底包括第一感光区域和第二感光区域。图像传感器结构还包括隔离结构,穿过衬底形成以使第一感光区域与第二感光区域分离;以及第一源极/漏极结构和第二源极/漏极结构,形成在衬底的前侧处。另外,第一源极/漏极结构和第二源极/漏极结构位于隔离结构的相对侧处。图像传感器结构还包括接触件,形成在隔离结构上方并且形成在第一源极/漏极结构的一部分和第二源极/漏极结构的一部分上方。
搜索关键词: 图像传感器 及其 制造 方法
【主权项】:
一种图像传感器结构,包括:衬底,包括第一感光区域和第二感光区域;隔离结构,穿过所述衬底形成以分离所述第一感光区域与所述第二感光区域;第一源极/漏极结构和第二源极/漏极结构,形成在所述衬底的前侧处,其中,所述第一源极/漏极结构和所述第二源极/漏极结构位于所述隔离结构的相对侧处;接触件,形成在所述隔离结构上方并且形成在所述第一源极/漏极结构的一部分和所述第二源极/漏极结构的一部分上方。
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