[发明专利]图形可变的电子束光刻机在审
| 申请号： | 201610566309.6 | 申请日： | 2016-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN106019854A | 公开（公告）日： | 2016-10-12 |
| 发明（设计）人： | 吕耀安 | 申请（专利权）人： | 无锡宏纳科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/67 |
| 代理公司： | 无锡华源专利商标事务所(普通合伙) 32228 | 代理人： | 聂汉钦 |
| 地址： | 214000 江苏省无锡市新区清源路*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种图形可变的电子束光刻机，包括由上至下依次安装的：一电子发射枪；用于发射电子；以电子发射枪发射电子的方向为系统参考轴心；一约束孔径；安装于所述电子发射枪的电子发射方向，与轴心与系统参考轴心相重合；多个约束磁块；围绕所述系统参考轴心间隔均匀的分布；一磁场偏转线圈；其轴心与系统参考轴心相重合；一偏转电场产生装置；包括互相垂直的x轴方向电场装置和y轴方向电场产生装置；一光刻掩膜；一晶圆放置台；其轴心与所述系统参考轴心重合。本发明在晶圆放置台和电子发生装置之间设置有光刻掩膜，阻挡了不在光刻图案路径上的电子束，可有效增加光刻精度。 | ||
| 搜索关键词： | 图形 可变 电子束光刻 | ||
【主权项】：
一种图形可变的电子束光刻机，其特征在于，包括由上至下依次安装的：一电子发射枪(1)；用于发射电子；以电子发射枪(1)发射电子的方向为系统参考轴心；一约束孔径(2)；安装于所述电子发射枪(1)的电子发射方向，与轴心与系统参考轴心相重合；多个约束磁块(3)；围绕所述系统参考轴心间隔均匀的分布；一磁场偏转线圈(4)；其轴心与系统参考轴心相重合；一偏转电场产生装置(5)；包括互相垂直的x轴方向电场装置和y轴方向电场产生装置；一光刻掩膜(6)；所述光刻掩膜(6)上设置有与光刻图案完全相同的掩膜图案。一晶圆放置台(7)；其轴心与所述系统参考轴心重合。
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