[发明专利]一种高压发光二极管及其制作方法有效
申请号: | 201610557039.2 | 申请日: | 2016-07-15 |
公开(公告)号: | CN106206865B | 公开(公告)日: | 2018-05-22 |
发明(设计)人: | 林志伟;陈凯轩;张永;卓祥景;姜伟;汪洋;童吉楚;方天足 | 申请(专利权)人: | 厦门乾照光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L33/02 |
代理公司: | 厦门市新华专利商标代理有限公司 35203 | 代理人: | 廖吉保;唐绍烈 |
地址: | 361000 福建省厦门市火炬*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明公开一种高压发光二极管,衬底上设置非故意掺杂层,非故意掺杂层上设置第一外延结构的n型接触层,第一外延结构的n型接触层分别设置隧穿结和第一外延结构的有源层,第一外延结构的有源层上由下至上依次设置p型接触层、p型欧姆接触层和p型电极;隧穿结上由下至上依次设置第二外延结构的p型接触层、有源层、n型接触层、n型欧姆接触层和n型电极;第一外延结构与第二外延结构之间设置绝缘层;第一外延结构的p型欧姆接触层的高度与第二外延结构的n型欧姆接触层高度相同,位于同一水平面内。本发明还公开高压发光二极管的制作方法。本发明解决高压发光二极管电极桥接提高发光功率时,电极桥接存在高度差造成工艺难度大及成品率低的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 高压 发光二极管 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种高压发光二极管,其特征在于:衬底上设置非故意掺杂层,非故意掺杂层上设置第一外延结构的n型接触层,第一外延结构的n型接触层上分别设置隧穿结和第一外延结构的有源层,第一外延结构的有源层上由下至上依次设置p型接触层、p型欧姆接触层和p型电极;隧穿结上由下至上依次设置第二外延结构的p型接触层、有源层、n型接触层、n型欧姆接触层和n型电极;第一外延结构与第二外延结构之间设置绝缘层;第一外延结构的p型欧姆接触层的高度与第二外延结构的n型欧姆接触层高度相同,位于同一水平面内。
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