[发明专利]一种异质结半导体激光器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610553344.4 申请日: 2016-07-13
公开(公告)号: CN106025798B 公开(公告)日: 2020-02-18
发明(设计)人: 雷双瑛;沈海云;黄兰 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: H01S5/32 分类号: H01S5/32;H01S5/323;H01S5/343;H01S5/16
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 柏尚春
地址: 210096*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 本文发明公开了一种异质结半导体激光器及其制备方法,利用双层Aδ堆垛黑磷烯和三层Aδδ堆垛黑磷烯通过横向连接可构成I型半导体异质结,用于在激光二极管中实现粒子数反转,能够有效的减小工作电流。所述半导体激光二极管由下至上依次包括:下电极(1)、衬底(2)、下包覆层(3)、有源层(4)、上包覆层(5)和上电极(6)。本发明选用的同种材料异质结更容易达到晶格匹配,制备工艺也更简单,仅仅通过范德瓦耳斯力就能将双层Aδ堆垛黑磷烯和三层Aδδ堆垛黑磷烯进行横向连接形成异质结。本文通过机械剥离的方法来得到不同堆垛结构的少层黑磷烯。
搜索关键词: 一种 异质结 半导体激光器 及其 制备 方法
【主权项】:
一种异质结半导体激光器其特征在于,用Aδ堆垛黑磷烯的不同堆垛结构实现半导体激光器,该异质结半导体激光器的结构自下而上包括:下电极(1)、衬底(2)、下包覆层(3)、有源层(4)、上包覆层(5)和上电极(6);其中,有源层(4)为量子阱区,激光器的两端形成光非吸收窗口(7),其深度大于所述电极上包覆层(5)以及有源区(4)的厚度之和。
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