[发明专利]掩模板和基板间隔柱及其制备方法、显示面板有效

申请号：	201610405123.2	申请日：	2016-06-08
公开（公告）号：	CN105824189B	公开（公告）日：	2020-01-07
发明（设计）人：	肖宇;汪栋;宋勇志	申请（专利权）人：	京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号：	G03F1/80	分类号：	G03F1/80;G03F7/20
代理公司：	11021 中科专利商标代理有限责任公司	代理人：	曹玲柱
地址：	100015 ***	国省代码：	北京;11
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摘要：	本发明实施例提供了一种掩模板和基板间隔柱及其制备方法、显示面板。在该掩模板中，形成有至少一个曝光区，该至少一个曝光区包括中心区域和外围区域，其中，该中心区域的透光率大于该外围区域的透光率，从而实现了透过整个曝光区的光强度分布均一，消除了经由其制备的基板间隔柱顶部的火山口形貌，减轻甚至避免了显示面板对外界压力变化比较敏感的Touch Mura等不良，提高了显示面板的画面品质。
搜索关键词：	模板间隔及其制备方法显示面板
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【主权项】：

1.一种掩模板，其特征在于，在所述掩模板上，形成有至少一个曝光区，所述至少一个曝光区包括中心区域和外围区域，/n其中，所述曝光区的至少一部分覆盖有光学半透层，沿曝光区中心至曝光区边沿的方向，所述光学半透层的厚度逐渐增加，使得所述中心区域的透光率大于所述外围区域的透光率。/n

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掩模板和基板间隔柱及其制备方法、显示面板-201610405123.2
发明人：肖宇;汪栋;宋勇志 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2016-06-08 - 公布日： 2020-01-07 - 主分类号： G03F1/80
摘要：本发明实施例提供了一种掩模板和基板间隔柱及其制备方法、显示面板。在该掩模板中，形成有至少一个曝光区，该至少一个曝光区包括中心区域和外围区域，其中，该中心区域的透光率大于该外围区域的透光率，从而实现了透过整个曝光区的光强度分布均一，消除了经由其制备的基板间隔柱顶部的火山口形貌，减轻甚至避免了显示面板对外界压力变化比较敏感的Touch Mura等不良，提高了显示面板的画面品质。

一种低成本精密芯片模具光刻掩膜的制备方法-201610283114.0
发明人：莫远东;弓满锋;莫德云;王小卉 -专利权人：岭南师范学院
申请日： 2016-05-03 - 公布日： 2020-01-07 - 主分类号： G03F1/80
摘要：本发明涉及一种低成本精密芯片模具光刻掩膜的制备方法，所述方法具体包括如下步骤：S1：在基板上涂覆第一层光刻胶，在所述光刻胶上覆盖一层金属箔片，在所述金属箔片上涂覆第二层光刻胶；S2：对第一、二层光刻胶进行前烘处理，借助掩膜板对第二层光刻胶进行曝光和显影；对第二层光刻胶进行后烘处理；S3：对所述金属箔片进行蚀刻，然后对第一层光刻胶进行曝光和显影，再对第一层光刻胶进行后烘处理即得精密芯片模具光刻掩膜。本发明提供的制备方法制备得到的光刻掩膜的最低线宽不低于20um，光刻胶厚度可以达到200um～300um，所得光刻掩膜能满足精密芯片加工制作的要求。

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