[发明专利]显示基板的制作方法、显示基板和显示装置有效
| 申请号： | 201610366137.8 | 申请日： | 2016-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN106128950B | 公开（公告）日： | 2019-01-22 |
| 发明（设计）人： | 崔承镇 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/311 | 分类号： | H01L21/311;H01L21/3213;H01L23/522 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 焦玉恒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种显示基板的制作方法、显示基板和显示装置。该显示基板的制作方法，包括：在衬底基板上形成第一金属图形；在第一金属图形上形成第一绝缘层；在第一绝缘层上形成第二金属图形；在第二金属图形上形成第二绝缘层；在第二绝缘层上形成第一导电层；对第一导电层进行构图形成第一导电图形；对第二绝缘层进行构图形成第二绝缘图形；第一金属图形在衬底基板上的正投影和第二金属图形在衬底基板上的正投影具有重叠部分；在对第二绝缘层进行构图的过程中，第一导电图形在衬底基板上的正投影至少覆盖重叠部分。该显示基板的制作方法、显示基板和显示装置，可以避免在显示基板的制作过程中静电荷导致的不良的发生。 | ||
| 搜索关键词： | 显示 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种显示基板的制作方法，包括：在衬底基板上形成第一金属图形；在所述第一金属图形上形成第一绝缘层；在所述第一绝缘层上形成第二金属图形；在所述第二金属图形上形成第二绝缘层；在所述第二绝缘层上形成第一导电层；对所述第一导电层进行构图形成第一导电图形；对所述第二绝缘层进行构图形成第二绝缘图形；其中，所述第一金属图形在所述衬底基板上的正投影和所述第二金属图形在所述衬底基板上的正投影具有重叠部分；在对所述第二绝缘层进行构图的过程中，所述第一导电图形在所述衬底基板上的正投影至少覆盖所述重叠部分。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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