[发明专利]一种快速沉积钐钡铜氧外延薄膜的方法

摘要

本发明公开了一种快速沉积钐钡铜氧外延薄膜的方法，将基板放置于沉积腔内的基板台上；打开真空泵，将沉积腔体内的压强降至最低值；对加热室和原料载流气管及喷嘴进行预热达到设定的温度后，将原料罐推至加热室；打开激光发生器，将激光引入沉积腔体内，对基板加热至沉积温度；打开阀门，使带有原料气的载流气和氧化气体通入到沉积腔体内，调节流量计使载流气和氧化气的流量分别达到相应的设定值，原料气在基板表面形成沉积钐钡铜氧薄膜。基板升温速度快，薄膜沉积速率极快，在薄膜厚度方向上无温度梯度，薄膜成分均一，厚度均匀，大大降低了能耗，非常节能，无杂相生成，超导性能良好。

主权项

一种快速沉积钐钡铜氧外延薄膜的方法，其特征在于，包括以下步骤：1)将基板放置于沉积腔内的基板台上；2)打开真空泵，将沉积腔体内的压强降至最低值；3)分别对加热室和原料载流气管及喷嘴进行预热至设定温度后，将装有原料的原料罐推至加热室，通入载流气将加热室中原料预热产生的废气排出；4)打开激光发生器，将激光引入沉积腔体内，加热基板至沉积温度；5)打开原料罐与沉积腔体之间的阀门及氧化气体与沉积腔体之间的阀门，使带有原料气的载流气和氧化气体通入到沉积腔体内；6)调节流量计使载流气和氧化气的流量分别达到相应的设定值；7)通过真空泵调节沉积腔体内的压强；8)原料气和氧化气发生化学反应，在基板表面形成沉积钐钡铜氧薄膜。