[发明专利]一种有机分子螺旋生长薄膜场效应晶体管及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201610289591.8 申请日: 2016-05-04
公开(公告)号: CN105810819B 公开(公告)日: 2018-09-04
发明(设计)人: 江潮;刘天俊;王嘉玮;李默林 申请(专利权)人: 国家纳米科学中心
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L51/30;H01L51/40
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 巩克栋;侯潇潇
地址: 100190 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种有机分子螺旋生长薄膜场效应晶体管及其制备方法和应用,所述场效应晶体管为在硅基底上具有介电修饰材料层,在该介电修饰材料层上具有螺旋生长的有机分子薄膜层,在该有机分子薄膜层上蒸镀金作为源电极和漏电极。本发明的有机分子螺旋生长薄膜场效应晶体管对载流子迁移率比非螺旋生长的有机分子薄膜晶体管的迁移率明显提高,具有良好的电荷传输性能,在光电器件领域具有广泛的应用前景。
搜索关键词: 一种 有机 分子 螺旋 生长 薄膜 场效应 晶体管 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
1.一种有机分子螺旋生长薄膜场效应晶体管,其特征在于,所述场效应晶体管为在硅基底上具有介电修饰材料层,在该介电修饰材料层上具有螺旋生长的有机分子薄膜层,在该有机分子薄膜层上蒸镀金作为源电极和漏电极,所述有机分子为3,6‑二甲基‑2,7‑二苯基‑8a,10a‑2,7‑二氢异苯并吡喃‑[7,8,1‑def]苯并吡喃,其结构如下所示:
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