[发明专利]减少外延衬底缺陷的形成方法

摘要

本发明提出了一种减少外延衬底缺陷的形成方法，先对原始外延衬底进行沉浸式缺陷去除处理，去除原始外延衬底较多的刮伤和缺陷，接着，进行抛光处理，接着，通过检测收集原始外延衬底表面形貌数据，并对形貌数据进行分析，获得原始外延衬底不同区域的待刻蚀量，并通过待刻蚀量确定不同区域所需的工艺参数，有针对性的刻蚀去除原始外延衬底不同区域的待刻蚀量，从而去除原始外延衬底表面的缺陷及刮伤，形成表面平滑的外延衬底，进而使后续形成的外延层性能得到提高。

主权项

一种减少外延衬底缺陷的形成方法，其特征在于，包括步骤：提供原始外延衬底；对所述初始外延衬底进行沉浸式缺陷去除处理；对所述原始外延衬底进行抛光处理；检测所述原始外延衬底表面形貌，并保存形貌数据；对所述形貌数据进行分析，获得所述原始外延衬底不同区域的待刻蚀量，并通过所述待刻蚀量确定不同区域所需的工艺参数；根据不同区域的所需工艺参数进行原始外延衬底不同区域的刻蚀，使所述原始外延衬底表面更加平滑；对所述原始外延衬底进行单面抛光，获得最终的外延衬底。