[发明专利]氧化锌靶溅射制备铜锌锡硫薄膜太阳电池的方法在审
| 申请号: | 201610110324.X | 申请日: | 2016-02-29 |
| 公开(公告)号: | CN105895735A | 公开(公告)日: | 2016-08-24 |
| 发明(设计)人: | 王书荣;陆熠磊;李志山;蒋志;杨敏;唐语 | 申请(专利权)人: | 云南师范大学 |
| 主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0296 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 650500 云南省昆明市呈*** | 国省代码: | 云南;53 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明公开了一种制备铜锌锡硫薄膜电池的方法,具体包括以下步骤:将钠钙玻璃衬底用丙酮、酒精、去离子水超声清洗,用重铬酸钾溶液浸泡,最后用去离子水超声清洗,用氮气吹干备用。将钠钙玻璃衬底放入磁控溅射系统中沉积1μm的钼背电极;以SLG/Mo/ZnO/Sn/Cu的顺序进行射频溅射,沉积600~800nm的铜锌锡氧预制层。将预制层在氮气下低温热处理,随后高温硫化得到铜锌锡硫薄膜吸收层,并制备成完整的电池结构。本发明的优点在于:(1)铜锌锡预制层在硫化后很难生成平坦吸收层,铜锌锡氧预制层硫化后表面平整并且没有针孔。(2)引入氧原子避免了硫化过程中体积突然膨胀,使薄膜脱落。(3)氧化锌在底部能起到阻挡层的作用,抑制硫化过程中生成硫化钼。 | ||
| 搜索关键词: | 氧化锌 溅射 制备 铜锌锡硫 薄膜 太阳电池 方法 | ||
【主权项】:
氧化锌靶溅射制备铜锌锡硫薄膜太阳电池的方法,其特征在于,包括以下步骤:第一步衬底清洗:将钠钙玻璃依次用去污粉、丙酮、酒精、去离子水超声清洗、重铬酸钾溶液浸泡24h,用去离子水超声清洗浸泡过重铬酸钾溶液的钠钙玻璃,用I号液和II号液处理衬底,再用去离子水清洗,并用氮气吹干备用;第二步将清洗好的钠钙玻璃放入磁控溅射系统里,在室温不同压强下,在钠钙玻璃上沉积1μm的双层钼背电极薄膜;第三步铜锌锡氧预制层的制备:利用磁控溅射系统,按照SLG/ Mo/ ZnO/ Sn/ Cu的顺序进行射频溅射,沉积600~800nm的铜锌锡氧薄膜预制层;第四步铜锌锡硫薄膜吸收层的制备:将第三步所制备的铜锌锡氧薄膜预制层在氮气或氩气保护下260℃热处理30 min,随后将热处理过的预置层与硫粉一起放入石墨舟,最后将石墨舟放入硫化炉中,以20‑30℃/min 升温速率加热硫化炉,从室温升到 560 ‑ 580℃,维持 8‑15 min,自然冷却至室温后得到铜锌锡硫薄膜吸收层,硫化过程中氧原子很容易被硫原子替代,所以硫化后得到的是铜锌锡硫吸收层,含有少量氧原子,第五步铜锌锡硫薄膜太阳电池的制备:将第四步所制备的铜锌锡硫薄膜吸收层用盐酸、溴‑甲醇溶液进行刻蚀,以便除去吸收层表面ZnS和Cu2SnS3等二次相,把处理后的吸收层用化学水浴沉积CdS薄膜,然后再将水浴后的薄膜放入磁控溅射系统中射频沉积ZnO和ITO薄膜,接着用蒸发制备Ni/Al电极,最后将整个器件在快速退火炉中退火。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于云南师范大学,未经云南师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610110324.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





