[发明专利]有宽面积肖特基结的宽带隙半导体开关器件及其制造方法在审
申请号: | 201610105439.X | 申请日: | 2016-02-25 |
公开(公告)号: | CN106486552A | 公开(公告)日: | 2017-03-08 |
发明(设计)人: | M·萨焦;S·拉斯库纳 | 申请(专利权)人: | 意法半导体股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/872 | 分类号: | H01L29/872;H01L29/06;H01L21/329 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人: | 王茂华 |
地址: | 意大利阿格*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本公开提供具有宽面积肖特基结的宽带隙半导体开关器件及其制造方法。开关器件包括半导体材料的本体(2),其具有第一导电性类型并且由前表面(Sa)界定;第一导电材料的接触层(12),其与前表面接触地延伸;以及多个掩埋区域(20),其具有第二导电性类型并且被设置在半导体本体内,与接触层相距一定距离。 | ||
搜索关键词: | 面积 肖特基结 宽带 半导体 开关 器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种开关器件,包括:‑半导体材料的本体(2),其具有第一导电性类型并且由前表面(Sa)界定;‑第一导电材料的接触层(12),其与所述前表面接触地延伸;以及‑多个掩埋区域(20),其具有第二导电性类型,并且被设置在半导体本体内,与所述接触层相距一定距离。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于意法半导体股份有限公司,未经意法半导体股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610105439.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:半导体器件及其制造方法
- 下一篇:高压氮化镓肖特基二极管
- 同类专利
- 专利分类