[发明专利]薄膜晶体管及阵列基板的制作方法、阵列基板、显示装置

摘要

本发明提供了一种薄膜晶体管及阵列基板的制作方法、阵列基板、显示装置，属于显示技术领域。其中，薄膜晶体管的制作方法包括：在基板上形成过渡层；对所述过渡层进行构图形成过渡层保留区域和过渡层未保留区域，所述过渡层未保留区域对应第一结构层的图形，其中所述过渡层保留区域的表面具有凹凸结构；在形成有所述过渡层的图形的基板上形成用于形成所述第一结构层的材料层；除去所述过渡层，所述材料层留在基板上的部分形成所述第一结构层的图形。本发明的技术方案能够避免膜层残留不良，提高阵列基板的良品率。

主权项

1.一种薄膜晶体管的制作方法，其特征在于，包括：在基板上形成过渡层；对所述过渡层进行构图形成过渡层保留区域和过渡层未保留区域，所述过渡层未保留区域对应第一结构层的图形；在形成有所述过渡层的图形的基板上形成用于形成所述第一结构层的材料层；除去所述过渡层，所述材料层留在基板上的部分形成所述第一结构层的图形；所述第一结构层为有源层；所述除去所述过渡层，所述材料层留在基板上的部分形成所述第一结构层的图形包括：在所述材料层上涂覆一层光刻胶；利用掩膜板对所述光刻胶进行曝光，显影后形成光刻胶保留区域和光刻胶未保留区域，所述光刻胶保留区域对应所述第一结构层的图形；利用干法刻蚀除去光刻胶未保留区域的所述材料层；将剥离液与所述过渡层接触，使得所述过渡层与剥离液反应从基板上除去。