[发明专利]取向膜材料及其制备方法、取向膜、显示基板制备方法有效
| 申请号： | 201610007276.1 | 申请日： | 2016-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN105487296B | 公开（公告）日： | 2019-01-22 |
| 发明（设计）人： | 周永山;李京鹏;高悦凯 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种取向膜材料及其制备方法、取向膜、显示基板制备方法，属于光取向技术领域，其可解决现有的光取向方法工艺复杂、产品质量不好的问题。本发明的取向膜材料包括：基材，用于通过光取向形成取向膜基体；光热转换材料，用于在紫外光照射下产生热量。 | ||
| 搜索关键词： | 取向 材料 及其 制备 方法 显示 | ||
【主权项】：
1.一种取向膜材料，其特征在于，包括：基材，用于通过光取向形成取向膜基体，所述基材在紫外线照射下分解产生裂解产物；光热转换材料，混于所述基材中，用于在紫外光照射下产生热量以使所述取向膜材料温度升高而将所述裂解产物挥发出所述取向膜材料；所述光热转换材料包括水滑石类插层材料，所述水滑石类插层材料经过改性基团改性，所述改性基团包括磷酸二氢根阴离子、亚氨基二乙酸阴离子、氨基三亚甲基膦酸阴离子中的任意一种或多种。
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