[发明专利]取向膜材料及其制备方法、取向膜、显示基板制备方法有效
申请号: | 201610007276.1 | 申请日: | 2016-01-06 |
公开(公告)号: | CN105487296B | 公开(公告)日: | 2019-01-22 |
发明(设计)人: | 周永山;李京鹏;高悦凯 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 柴亮;张天舒 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 取向 材料 及其 制备 方法 显示 | ||
1.一种取向膜材料,其特征在于,包括:
基材,用于通过光取向形成取向膜基体,所述基材在紫外线照射下分解产生裂解产物;
光热转换材料,混于所述基材中,用于在紫外光照射下产生热量以使所述取向膜材料温度升高而将所述裂解产物挥发出所述取向膜材料;
所述光热转换材料包括水滑石类插层材料,所述水滑石类插层材料经过改性基团改性,所述改性基团包括磷酸二氢根阴离子、亚氨基二乙酸阴离子、氨基三亚甲基膦酸阴离子中的任意一种或多种。
2.根据权利要求1所述的取向膜材料,其特征在于,
所述水滑石类插层材料包括锌铝水滑石类插层材料、镁铝水滑石类插层材料、锌铁水滑石类插层材料、锌铬水滑石类插层材料中的任意一种或多种。
3.根据权利要求1所述的取向膜材料,其特征在于,
所述光热转换材料为颗粒状,其粒径在10nm至100nm之间。
4.根据权利要求1所述的取向膜材料,其特征在于,
在所述取向膜材料中,光热转换材料的质量百分含量在0.01%至10%之间。
5.根据权利要求4所述的取向膜材料,其特征在于,
在所述取向膜材料中,光热转换材料的质量百分含量在1%至8%之间。
6.一种取向膜,其特征在于,
所述取向膜由权利要求1至5中任意一项所述的取向膜材料经光取向形成。
7.一种取向膜材料的制备方法,其特征在于,包括:
将光热转换材料与基材混合,得到取向膜材料;其中,基材用于通过光取向形成取向膜基体,所述基材在紫外线照射下分解产生裂解产物,光热转换材料用于在紫外光照射下产生热量以使所述取向膜材料温度升高而将所述裂解产物挥发出所述取向膜材料,所述光热转换材料包括水滑石类插层材料,所述水滑石类插层材料经过改性基团改性,所述改性基团包括磷酸二氢根阴离子、亚氨基二乙酸阴离子、氨基三亚甲基膦酸阴离子中的任意一种或多种。
8.一种显示基板制备方法,其特征在于,包括:
将权利要求1至5中任意一项所述的取向膜材料涂布在显示基板上,形成未取向膜层;
用线偏振的紫外光对所述未取向膜层进行照射,使所述未取向膜层转变为取向膜。
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