[发明专利]取向膜材料及其制备方法、取向膜、显示基板制备方法

说明书

本发明提供一种取向膜材料及其制备方法、取向膜、显示基板制备方法，属于光取向技术领域，其可解决现有的光取向方法工艺复杂、产品质量不好的问题。本发明的取向膜材料包括：基材，用于通过光取向形成取向膜基体；光热转换材料，用于在紫外光照射下产生热量。

技术领域

本发明属于光取向技术领域，具体涉及一种取向膜材料及其制备方法、取向膜、显示基板制备方法。

背景技术

在液晶显示装置中，取向膜是重要结构之一，其用于使与其接触的液晶分子产生特定的取向。取向膜通常由聚酰亚胺(PI)材料构成，为使其能产生取向作用，故需要对其进行取向。

一种现有的取向方法是摩擦取向，即用带有细毛的摩擦辊对取向膜表面进行摩擦，从而在其中形成许多微小的沟槽，作为取向结构。但摩擦取向方法存在会引入污染物、易损伤取向膜等许多问题。

为此，人们发展了光取向技术，即在将取向膜材料涂布在基底(如玻璃基底)上之后，用具有特定偏振方向的线偏振紫外光照射取向膜材料，使其中特定方向的分子链断裂，从而生成所需的取向结构。光取向方法避免了摩擦取向中的许多问题，但是，在分子链断裂的同时会生成许多作为副产品的裂解产物，这些裂解产物的存在会影响取向膜性能。因此，在进行光照后，还要对取向膜进行后烘加热，以将裂解产物挥发除去。这样，一方面后烘工艺的存在导致光取向方法工艺复杂、能耗大、耗时长；另一方面，裂解产物是在取向膜内部生成的且有渗透、吸附等作用，故在光照后在进行加热很难将其彻底除去，从而会影响取向膜产品的质量。

发明内容

本发明针对现有的光取向方法工艺复杂、产品质量不好的问题，提供一种工艺简单、产品质量好的取向膜材料及其制备方法、取向膜、显示基板制备方法。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种取向膜材料，其包括：

基材，用于通过光取向形成取向膜基体；

光热转换材料，用于在紫外光照射下产生热量。

优选的，所述光热转换材料包括水滑石类插层材料、金纳米材料、碳纳米管、石墨烯中的任意一种或多种。

进一步优选的，所述水滑石类插层材料包括锌铝水滑石类插层材料、镁铝水滑石类插层材料、锌铁水滑石类插层材料、锌铬水滑石类插层材料中的任意一种或多种。

进一步优选的，所述水滑石类插层材料经过改性基团改性，所述改性基团包括磷酸二氢根阴离子、亚氨基二乙酸阴离子、氨基三亚甲基膦酸阴离子中的任意一种或多种。

优选的，所述光热转换材料为颗粒状，其粒径在10nm至100nm之间。

优选的，在所述取向膜材料中，光热转换材料的质量百分含量在0.01％至10％之间。

进一步优选的，在所述取向膜材料中，光热转换材料的质量百分含量在1％至8％之间。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种取向膜，其由上述的取向膜材料经光取向形成。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种取向膜材料的制备方法，其包括：

将光热转换材料与基材混合，得到取向膜材料；其中，基材用于通过光取向形成取向膜基体，光热转换材料用于在紫外光照射下产生热量。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种显示基板制备方法，其包括：

将上述取向膜材料涂布在显示基板上，形成未取向膜层；

用线偏振的紫外光对所述未取向膜层进行照射，使所述未取向膜层转变为取向膜。