[发明专利]立体和结构光处理的组合有效

专利信息
申请号: 201580044728.7 申请日: 2015-06-18
公开(公告)号: CN106575438B 公开(公告)日: 2019-06-25
发明(设计)人: K.科诺利格;E.鲁布利 申请(专利权)人: X开发有限责任公司
主分类号: G06T7/521 分类号: G06T7/521;G06T7/593
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邵亚丽;钱大勇
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 提供了使用立体和结构光处理的组合来确定深度信息的方法和系统。示例方法包括接收利用至少两个光学传感器捕获的多个图像,以及基于第一图像和第二图像之间的对应特征确定至少一个表面的第一深度估计。此外,该方法包括使纹理投影仪投射已知的纹理式样,以及基于第一深度估计确定多个图像中的至少一个图像的至少一个区域,在该至少一个区域内搜索已知纹理式样的特定部分。并且所述方法包括确定与所述至少一个区域内的已知纹理式样的特定部分相对应的点,以及基于所确定的与所述已知纹理式样相对应的点来确定所述至少一个表面的第二深度估计。
搜索关键词: 立体 结构 处理 组合
【主权项】:
1.一种用于深度感测的方法,包括:由计算装置接收由至少两个光学传感器捕获的多个图像,其中,所述多个图像包括从第一光学传感器的第一视点感知的环境的第一图像和从第二光学传感器的第二视点感知的所述环境的第二图像;由所述计算装置基于所述第一图像和所述第二图像之间的对应特征来确定所述环境中的至少一个表面的第一深度估计;由所述计算装置使得纹理投影仪将已知纹理式样投射到所述环境上;由所述计算装置并且基于所述第一深度估计来确定所述多个图像中的至少一个图像的至少一个区域,以在所述至少一个区域内搜索所述已知纹理式样的特定部分,其中,所述至少一个图像指示所述环境和投射到所述环境上的所述已知纹理式样;由所述计算装置确定与所述至少一个图像的至少一个区域内的所述已知纹理式样的所述特定部分相对应的点;以及基于所确定的与所述至少一个图像的至少一个区域内的所述已知纹理式样的所述特定部分相对应的点,由所述计算装置确定所述环境中的所述至少一个表面的第二深度估计。
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