[发明专利]用于移除光刻胶的剥离剂组合物以及使用其剥离光刻胶的方法有效
| 申请号： | 201580038411.2 | 申请日： | 2015-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN106662825B | 公开（公告）日： | 2020-07-10 |
| 发明（设计）人： | 朴泰文;郑大哲;李东勋;李佑然;李贤浚;金周永 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 顾晋伟;赵丹 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于移除光刻胶的剥离剂组合物以及使用其剥离光刻胶的方法，所述组合物包含：至少一种胺化合物；至少一种选自非质子极性有机溶剂和水的溶剂；质子极性有机溶剂；以及聚醚改性的聚二甲基硅氧烷，所述聚醚改性的聚二甲基硅氧烷在20℃下的动态粘度为25mPa·s至250mPa·s且包含20摩尔％至70摩尔％的包含聚醚类官能团的聚二甲基硅氧烷重复单元。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 剥离 组合 以及 使用 方法 | ||
【主权项】：
一种用于移除光刻胶的剥离剂组合物，其包含：至少一种胺化合物；至少一种选自非质子极性有机溶剂和水的溶剂；质子极性有机溶剂；以及聚醚改性的聚二甲基硅氧烷，所述聚醚改性的聚二甲基硅氧烷在20℃下的动态粘度为25mPa·s至250mPa·s且包含20摩尔％至70摩尔％的引入有聚醚类官能团的聚二甲基硅氧烷重复单元。
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