[实用新型]基于化学气相沉积法制备样品的系统有效
申请号: | 201520388465.9 | 申请日: | 2015-06-03 |
公开(公告)号: | CN204803403U | 公开(公告)日: | 2015-11-25 |
发明(设计)人: | 陈小梅 | 申请(专利权)人: | 陈小梅 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;B82Y40/00;G01N1/28 |
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地址: | 350206 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种基于化学气相沉积法制备样品的系统,主要包括管式炉(1)、调节控制室(7)、气体输入室(8)和尾气回收室(9),其中管式炉(1)由衬底(2)、石英管(3)、陶瓷舟(4)、热电偶(5)和硅碳棒(6)构成,所述石英管(3)从衬底(2)中间穿设而过,热电偶(5)插设在衬底(2)上方,在石英管(3)两端各设置有一硅碳棒(5),调节控制室(7)分别与两个硅碳棒(5)连接,气体输入室(8)和尾气回收室(9)分别连接石英管(3)的两端。本实用新型提供的基于化学气相沉积法制备样品的系统,具有操作简单、易于控制和实验周期短等特点。 | ||
搜索关键词: | 基于 化学 沉积 法制 样品 系统 | ||
【主权项】:
一种基于化学气相沉积法制备样品的系统,其特征在于:所述基于化学气相沉积法制备样品的系统主要包括管式炉(1)、调节控制室(7)、气体输入室(8)和尾气回收室(9),其中管式炉(1)由衬底(2)、石英管(3)、陶瓷舟(4)、热电偶(5)和硅碳棒(6)构成,所述石英管(3)从衬底(2)中间穿设而过,热电偶(5)插设在衬底(2)上方,在石英管(3)两端各设置有一硅碳棒(5),调节控制室(7)分别与两个硅碳棒(5)连接,气体输入室(8)和尾气回收室(9)分别连接石英管(3)的两端。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的