[发明专利]一种广泛适用的斑点束平行透镜设计方法

摘要

本发明公开了一种广泛适用的斑点束平行透镜磁铁边界形状设计方法，属于半导体装备领域。如图1所示是斑点束平行透镜磁铁及斑点束线的俯视图，斑点束平行透镜磁铁设计方法包括1、平行透镜入口焦点位置O点；2、束线中心轨迹上入口焦点与平行透镜入口距离L；3、束线扫描角度θ；4、束线在平行透镜中的偏转半径R；5、束线出平行透镜期望的偏转角度Θ；6、束线经过平行透镜后的期望束宽Δ；该设计方法的主要思想是，首先确定平行透镜入口焦点位置O点后，给出束线中心轨迹上入口焦点与平行透镜入口距离L及要求的束线扫描角度θ，根据这三个参量可求出平行透镜磁铁的入口边界方程。同样，根据束线在平行透镜中的偏转半径R、束线出平行透镜期望的偏转角度Θ及束线经过平行透镜后的期望束宽Δ，根据这三个参量可求出平行透镜磁铁的出口边界方程。

主权项

一种广泛适用的斑点束平行透镜磁铁设计方法，包括：平行透镜入口焦点位置O点；束线中心轨迹上入口焦点与平行透镜入口距离L；束线扫描角度θ；束线在平行透镜中的偏转半径R；束线出平行透镜期望的偏转角度Θ；束线经过平行透镜后的期望束宽Δ。