[发明专利]用于铜层和钛层的蚀刻溶液组合物以及使用其制造用于液晶显示器的阵列基板的方法在审
| 申请号： | 201510416611.9 | 申请日： | 2015-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN105316679A | 公开（公告）日： | 2016-02-10 |
| 发明（设计）人： | 尹暎晉;鞠仁說;劉仁浩;南基龍;朴英哲;李昔準;李俊雨 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;C23F1/26;H01L21/28;H01L21/77 |
| 代理公司： | 北京鼎宏元正知识产权代理事务所(普通合伙) 11458 | 代理人： | 李波;武媛 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了用于铜层和钛层的蚀刻溶液组合物以及使用所述蚀刻溶液组合物制造用于液晶显示器的阵列基板的方法。用于蚀刻铜层和钛层的蚀刻溶液组合物包括过硫酸盐、氯化合物、铜盐、环胺化合物和电子供体化合物，从而能够以高的蚀刻速度均匀地分批蚀刻铜层和钛层，同时防止难溶性沉淀的发生。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 蚀刻 溶液 组合 以及 使用 制造 液晶显示器 阵列 方法 | ||
【主权项】：
用于蚀刻铜层和钛层的蚀刻溶液组合物，其包括：过硫酸盐、氯化合物、铜盐、环胺化合物和电子供体化合物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东友精细化工有限公司，未经东友精细化工有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510416611.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于等离子体增强化学气相沉积的腔室
- 下一篇：电磁开关
