[发明专利]一种负压式硅片制作设备及其控制方法有效

专利信息
申请号: 201510166783.5 申请日: 2015-04-09
公开(公告)号: CN104818529B 公开(公告)日: 2017-04-19
发明(设计)人: 高文秀;李帅;赵百通 申请(专利权)人: 江苏盎华光伏工程技术研究中心有限公司
主分类号: C30B29/06 分类号: C30B29/06;C30B11/00;C30B28/06
代理公司: 上海科律专利代理事务所(特殊普通合伙)31290 代理人: 金碎平,袁亚军
地址: 214213 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种负压式硅片制作设备及其控制方法,包括炉体,所述炉体内设有用于盛放硅液的坩埚,所述坩埚的外侧周围设有加热器,所述坩埚的上方设有硅片提取单元,所述硅片提取单元包括可一起上下移动的冷却腔和扩容减压室,所述冷却腔伸入到扩容减压室中,所述扩容减压室的上端封闭,下端开口并在开口处设有耐温挂件,所述耐温挂件围绕在冷却腔的周围并伸出冷却腔的底部,所述冷却腔的外壁、扩容减压室的内壁以及硅液之间可形成密闭负压腔,所述炉体上设有硅片承接板,所述硅片承接板上设有高频感应线圈。本发明可实现由硅熔液直接形成硅片的过程,硅片厚度薄,重复性好,大大节省了硅材料及单个硅片的能耗,并降低硅太阳能电池成本。
搜索关键词: 一种 负压式 硅片 制作 设备 及其 控制 方法
【主权项】:
一种负压式硅片制作设备,包括炉体(15),所述炉体(15)内设有用于盛放硅液(10)的坩埚(9),所述坩埚(9)的外侧周围设有加热器(8),所述坩埚(9)的上方设有硅片提取单元(16),其特征在于,所述硅片提取单元(16)包括可一起上下移动的冷却腔(161)和扩容减压室(5),所述冷却腔(161)伸入到扩容减压室(5)中,所述扩容减压室(5)的上端封闭,下端开口并在开口处设有耐温挂件(163),所述耐温挂件(163)围绕在冷却腔(161)的周围并伸出冷却腔(161)的底部,所述冷却腔(161)的外壁、扩容减压室(5)的内壁以及硅液(10)之间可形成密闭负压腔,所述炉体(15)上设有硅片承接板(18),所述硅片承接板(18)上设有高频感应线圈(7)。
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