[发明专利]含有氮化硼涂层的真空镀膜设备的靶材腔体及制备方法在审

专利信息
申请号: 201510137528.8 申请日: 2015-03-27
公开(公告)号: CN104991298A 公开(公告)日: 2015-10-21
发明(设计)人: 林嘉佑 申请(专利权)人: 林嘉佑
主分类号: G02B5/08 分类号: G02B5/08;G02B1/10;C09D1/00;C09D7/12
代理公司: 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 代理人: 王光辉
地址: 江苏省苏州市太仓*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种含有氮化硼涂层的真空镀膜设备的靶材腔体及制备方法,所述含有氮化硼涂层的真空镀膜设备的靶材腔体,为表面涂覆了含有氮化硼涂料,并干燥后的靶材腔体,含有氮化硼涂料包括如下重量份数的组分:乙醇100份,氮化硼粉末15~30份,辅料0~10份,粘结剂0~10份。本发明在真空镀膜设备的靶材所置腔体内,形成一层光滑且具有吸附靶材落尘功能的涂层,该涂层不会对靶材造成任何不利影响,不会对设备所生产的产品造成任何不利影响,且所述涂层在真空镀膜设备保养时可以快速清洁并重复使用,从而不仅可以提高真空镀膜设备所生产产品的成品率,同时也提高设备保养时的工作效率。
搜索关键词: 含有 氮化 涂层 真空镀膜 设备 靶材腔体 制备 方法
【主权项】:
含有氮化硼涂料,其特征在于,包括如下重量份数的组分:乙醇                     100份氮化硼粉末               15~30份辅料                     0~10份粘结剂                   0~10份。
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